科技媒體《The Information》報道稱，中國已開始生產自主研發的浸沒式深紫外(DUV)光刻機。這種關鍵芯片製造設備長期以來一直由荷蘭供應商ASML主導。

　　報道指一家上海國資背景企業已開始生產自主研發的DUV光刻機，今年計劃生產約5部，明年則增加至約20部，並預計今年開始交付中國主要芯片製造商，包括中芯國際(00981)、華虹半導體(滬:688347)以及長鑫存儲。

　　DUV光刻機通常被認為是半導體行業的主力設備，技術上不及ASML更先進的極紫外EUV光刻機。但ASML被禁止向中國出口EUV光刻機，公司向中國出售最先進DUV光刻機亦受到限制。報道指，中國亦正研發國產EUV光刻機，不過目前仍處於原型機階段。

　　隨著美國正考慮進一步收緊外國光刻設備對華出口以及在華維修服務限制，這項技術有望為中國芯片製造商提供關鍵設備的替代供應來源。
《經濟通通訊社28日專訊》

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